关于罩式退火炉的那些事！

　　退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以激活掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉积的薄膜，改变生长的薄膜的状态，修复注入的损伤，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中，例如氧化，或者可以自己处理。

　　退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。退火炉是节能型周期式作业炉，超节能结构，采用纤维结构，节电60%。

　　罩式退火炉主要用于在自然气氛中进行薄板材退火以及钢件的正火处理。1、特殊钢、精密合金、大型全纤维台车式电阻炉说明带材、线材的光亮退火。2、特殊钢铸、锻件的退火。3、硅钢片成品退火。4、金属、非金属粉末压制作件的烧结等。